磁屏蔽的解決方案-上海朝展金屬材料有限公司

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磁屏蔽的目的是要達到減少所規(guī)定的磁場，這樣使其對所屏蔽的器件或系統(tǒng)不形成威脅。通常是保護電子線路免于受到諸如永磁體、變壓器、電機、線圈、電纜等產生磁場的干擾，當然屏蔽強的磁干擾源使它免于干擾附近的元器件功能也是一個重要的應用目的。在低頻（ＤＣ到100KHｚ）磁屏蔽中，設計低成本屏蔽體的*關鍵因素包括：金屬材料的選擇.主要設計參數和加工工藝。
一.材料的選擇
　對于屏蔽體來說，所選擇的金屬材料的類型對其性能和成本影響極大。在設計屏蔽體時這一點是重要的，就是要深入了解普通使用的不同屏蔽合金的特性。對這些不同性能的理解就可使你選擇合適的材料，去滿足目標要求。
   磁屏蔽金屬材料要根據各自的特性進行選擇，特別是磁導率和磁飽和性能。因為是在變更低頻磁場方向的獲得效能SE，所以高磁導率金屬材料（比如含79-81％的鎳合金Ｍumetal,PM這是一種高磁導率鐵鎳合金）是經常使用的屏蔽材料。如在需要于極小空間內降低磁場時，典型上使用這些合金。在需要提供比要求更高屏蔽時，或是在較高場強時需要具有更高飽和值材料時，朝展金屬1J50材料常被選中。
    在屏蔽目標僅需要稍微減少場強時（減少１～１／４），或是當場強足以使高磁導率屏蔽體飽和時，超低碳鋼（DT）可能是*佳的選擇。這些較低成本材料的碳含量典型小于0.01％；與其它鋼相比，其有較高的磁導率和極優(yōu)的飽和性能。這些材料具有較小的柔韌性，并比硅鋼較容易制造，這就允許在大面積屏蔽項目中容易安裝和以同樣的方式加工出小型組件?？膳c高磁導率材料一起使用，以為需要高飽和保護和高衰減等級建立*佳的屏蔽體。
二. 設計考慮
　大部分屏蔽體用的公式和模型的開發(fā)是基于圓形或無限長的圓柱體幾何形狀的。在實際應用中，所給定屏蔽體的實踐形狀由器件結構和屏蔽體自身的可利用空間所決定。在設計一屏蔽體時，要了解的重要的結構是，要使磁力線旋轉９０°是困難的。但是，圓形屏蔽體，比如要改變圓柱體或是具有圓形角的盒體的磁力線的方向要比具有方形角的屏蔽體容易一些。類似地，對于包容已進入屏蔽材料的磁力線并改變其方向，圓角要比尖角好一些。保持可提供低磁阻路徑的屏蔽體形狀簡單或磁場運動的"*低磁阻路徑"是很重要的。
　屏蔽體的尺寸在屏蔽效率和成本方面的重要性極大。屏蔽體的有效半徑越小，其整體性能就越好。但是，設計屏蔽體的目的是使其包絡試圖屏蔽的組件和空間，并應該靠得很近。由于材料占屏蔽體設計的大部分成本，因此較小屏蔽體就可以在較低成本下獲得較優(yōu)的性能。
　每當有可能，屏蔽體應與所有壁靠近，以避免場泄漏。這種結構（即使是矩形）也是*接近于圓形的，它可以建立一個半閉合的磁路。另外，全部箱體可在所有軸上獲得屏蔽特性，這樣就可以保證*好的屏蔽性能。當特殊的性能和進出口需要時，可移動的蓋板、罩和門均可組合到屏蔽體設計中去。
　利用蓋板、罩和門時或使用兩塊或多塊板構建屏蔽體時，在多塊板間保持磁連續(xù)性和電接觸是很重要的?？赏ㄟ^機械式（利用磨擦組件）或焊接保持磁連續(xù)性。在拐角或過渡連接，使用焊接可獲得*佳性能。維持表面間的連續(xù)性就可以保證磁力線連續(xù)沿其低磁阻路徑前進，這樣可以提高屏蔽效能。在交流場，保持磁連續(xù)性就允許較高的感應電流屏蔽，在直流場，對于適當的磁力線分路，連續(xù)性也是重要的。
　如果你不能靠近屏蔽體的一端或兩端，要特別注意開端的長一直徑比。屏蔽體的這種長-直徑比至少應為４：１，以避免"端接效應"和磁力線穿透屏蔽體范圍。經驗法則是，屏蔽體需要延伸到器件的外部，這樣可以用與開孔半徑相等部分進行保護。由于增加了屏蔽體的長度同時保持直徑不變，就可以用無限長圓柱體模型進行近似。當圓柱型或矩形屏蔽體需要大的開孔時，垂直于屏蔽體壁的的管可用于由于開孔而引起屏蔽體的磁場強度的減少。管的長度應正比于所屏蔽的開孔的直徑。
三.生產技術
　　一種好的屏蔽體設計要涉及到加工過程，其可提供所需要的結構和特性。在過去，大部分磁屏蔽體是用標準的精密片狀金屬加工技術通過剪切、穿孔、成型和焊接加工出來的?，F在，利用先進的激光切割系統(tǒng)，個別部件的剪切和計算機化的數字控制沖孔都由一步激光切割技術所代替。主要的屏蔽元件的一步加工技術可使加工時間更快和降低加工成本，而無須高成本的加工方法。特別是對于型材和特殊設備（比如專用切割和系列化），這種過程可為屏蔽設計者提供更大的靈活性。
　利用母材并使用縫隙和連接點的氬弧焊或疊層縫隙的點焊，就可以組裝多個屏蔽元件。氬弧焊可使組裝的屏蔽體得到*佳化的磁連續(xù)性，它可用于使用高屏蔽性能方面。對于大部分應用，與氬弧焊相比，法蘭和疊層連接的點焊可獲得更**的磁連續(xù)性。
　為使朝展金屬的屏蔽合金（如PM,Mumetal）達到*佳性能，還要進行特殊的被稱為氫退火的熱處理循環(huán)（隨貨附帶上詳細工藝圖）。一旦所有加工過程完成，就可以進行退火過程（注意此工序只能在*后一道來完成）。但在退火以后，對屏蔽體進行沖擊和振動試驗，將會降低材料的性能。嚴格遵守所規(guī)定的退火周期，不但能保證獲得*佳磁屏蔽性能，而且還可以將未退火材料的磁導率平均提高40倍以上。
磁屏蔽的解決方案-上海朝展金屬材料有限公司
附：磁屏蔽材料參數及材料劃分：磁屏蔽體由磁性材料制成，衡量材料導磁能力的參數是磁導率，通常以數字來表示相對大小。真空磁導率為1，屏蔽材料的磁導率從200到350000；磁屏蔽材料的另一個重要參數是飽和磁化強度。磁屏蔽材料一般分為三類，即高導磁材料、中導磁材料和高飽和材料。
    高飽和磁導率材料的磁導率在80000-350000之間，經熱處理后其飽和場可達7500Gs；中磁導率材料通常和高導材料一起使用，其磁導率值從12500-150000，飽和場15500Gs；高飽和場的磁導率值為200-50000，飽和場可達18000-21000Gs。
（詳見首頁中的解決方案http://www.epxd.cn/pddetailthree/datum/detail-7103.html）

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